铱薄膜的MOCVD沉积效果研究

• 作者: 胡昌义 蔡宏中 陈力 魏燕
• 来源期刊: 稀有金属材料与工程
• 学科: 工学
• 关键词: MOCVD 铱 薄膜
• 年，卷（期）: 2010,（2）
• 所属期刊栏目: 材料科学
• 页码范围: 209-213
• 页数: 5页
• 分类号: TG1
• 字数: 643字
• 语种: 中文

摘要

以乙酰丙酮铱为前驱体,采用金属有机化合物化学气相沉积(MOCVD)技术在Mo基体上制备Ir薄膜.研究Ir的沉积效果与沉积温度及反应气体(O_2)间的关系.Ir薄膜的沉积速率与沉积温度之间的关系不符合Arrhenius方程,沉积速率与沉积温度绝对温度的倒数呈抛物线关系,当温度为750 ℃时,Ir的沉积速率达到最大值,沉积温度对Ir薄膜的显微形貌有显著影响;O_2的流量对薄膜的成分、形貌及结构等均有显著影响.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	胡昌义		26	117	7.0	9.0
3	陈力		24	212	9.0	13.0
5	蔡宏中		19	82	6.0	8.0
7	魏燕		12	32	4.0	5.0