米曲霉外切β-D-氨基葡萄糖苷酶活性部位研究

• 作者: 夏文水 李冬霞
• 来源期刊: 食品工业科技
• 学科: 工学
• 关键词: β-D-氨基葡萄糖苷酶 化学修饰 活性部位
• 年，卷（期）: 2010,（10）
• 页码范围: 200-202
• 分类号: TS201.1
• 语种: 中文

摘要

为了解米曲霉外切β-D-氨基葡萄糖苷酶(GlcNase)的结构特点,采用焦碳酸二乙酯(DEPC)和N-溴代琥珀酰亚胺(NBS),分别对GlcNase分子中的组氨酸(His)残基和色氨酸(Trp)残基进行化学修饰.DEPC修饰结果表明,有1分子His残基位于GlcNase的活性部位;NBS修饰结果表明,Trp残基处于GlcNase的活性部位,且至少有1分子Trp残基位于GlcNase活性部位的底物结合部位.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	夏文水	江南大学食品学院	354	5083	36.0	51.0
2	李冬霞	苏州农业职业技术学院食品系	9	15	1.0	3.0