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基于静电排斥力的大冲程MEMS变形镜
基于静电排斥力的大冲程MEMS变形镜
作者:
倪祖高
姚军
汪为民
陈科帆
高福华
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
微电子机械系统(MEMS)
变形镜
自适应光学
吸合效应
静电排斥力
冲程
摘要:
设计并制造了一种基于静电排斥力的大冲程MEMS变形镜,此变形镜采用了三个多晶硅结构层和一个金属反射层的设计.利用表面硅工艺完成了变形镜的加工,结合有限元分析软件和白光干涉仪对三种不同驱动器电极空间分布方式的静电排斥型变形镜进行了分析和研究.测试结果表明,静电排斥型变形镜在200V下能实现1.7 μm以上的位移,冲程较传统静电吸引型变形镜有显著提高.在相同电压下,第三层多晶硅作为边缘电极时的变形镜获得的位移最大,在210 V下达到2.42 μm.
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自适应光学
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基于YOLO和排斥力损失函数的行人检测方法
行人检测
YOLO
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内容分析
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文献信息
篇名
基于静电排斥力的大冲程MEMS变形镜
来源期刊
微纳电子技术
学科
工学
关键词
微电子机械系统(MEMS)
变形镜
自适应光学
吸合效应
静电排斥力
冲程
年,卷(期)
2011,(4)
所属期刊栏目
MEMS与传感器
研究方向
页码范围
242-247
页数
分类号
TH703
字数
1972字
语种
中文
DOI
10.3969/j.issn.1671-4776.2011.04.008
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
高福华
四川大学物理学院
56
392
11.0
16.0
2
姚军
中国科学院光电技术研究所微细加工与光学技术国家重点实验室
32
355
11.0
18.0
3
汪为民
中国科学院光电技术研究所微细加工与光学技术国家重点实验室
16
32
3.0
4.0
4
陈科帆
中国科学院光电技术研究所微细加工与光学技术国家重点实验室
1
2
1.0
1.0
5
倪祖高
中国科学院光电技术研究所微细加工与光学技术国家重点实验室
3
17
2.0
3.0
传播情况
被引次数趋势
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(/年)
引文网络
引文网络
二级参考文献
(6)
共引文献
(13)
参考文献
(9)
节点文献
引证文献
(2)
同被引文献
(8)
二级引证文献
(2)
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参考文献(0)
二级参考文献(1)
1982(1)
参考文献(0)
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1995(1)
参考文献(0)
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1996(1)
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1997(1)
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1998(1)
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参考文献(1)
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2006(1)
参考文献(1)
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2007(2)
参考文献(1)
二级参考文献(1)
2008(1)
参考文献(1)
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参考文献(0)
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2017(1)
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2018(1)
引证文献(0)
二级引证文献(1)
研究主题发展历程
节点文献
微电子机械系统(MEMS)
变形镜
自适应光学
吸合效应
静电排斥力
冲程
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
微纳电子技术
主办单位:
中国电子科技集团公司第十三研究所
出版周期:
月刊
ISSN:
1671-4776
CN:
13-1314/TN
开本:
大16开
出版地:
石家庄市179信箱46分箱
邮发代号:
18-60
创刊时间:
1964
语种:
chi
出版文献量(篇)
3266
总下载数(次)
22
相关基金
国家自然科学基金
英文译名:
the National Natural Science Foundation of China
官方网址:
http://www.nsfc.gov.cn/
项目类型:
青年科学基金项目(面上项目)
学科类型:
数理科学
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