磁控溅射TiAlVN薄膜中V含量对其结构和抗腐蚀性能的影响

• 作者: 宋庆功 辛慧
• 来源期刊: 材料保护
• 学科: 工学
• 关键词: 磁控溅射 TiAlVN薄膜 TiAlN薄膜 抗腐蚀性能
• 年，卷（期）: 2011,（2）
• 页码范围: 61-63
• 分类号: TG174.444
• 语种: 中文

摘要

向TiAlN薄膜中添加V可改善薄膜性能.采用磁控溅射技术沉积了不同V含量的TiAlVN薄膜,通过能谱仪、台阶仪、X射线衍射仪(XRD)和原子力显微镜(AFM)分析薄膜的成分、厚度、相结构和表面形貌,用动电位极化的方法研究薄膜的抗腐蚀性能.结果表明:TiAlVN薄膜属于面心立方(fcc)和六方密排(hcp)二重结构,晶格常量比TiAlN薄膜小,晶粒尺寸比TiAlN薄膜大,含V 10.20%的TiAlVN薄膜质量相对较好;TiAlVN薄膜的腐蚀电流明显小于TiAIN薄膜,抗腐蚀性能增强,含V 10.20%的TiAlVN薄膜的抗腐蚀性能约为TiAlN薄膜的4倍.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	宋庆功	中国民航大学理学院	62	168	7.0	9.0
2	辛慧	中国民航大学理学院	2	22	2.0	2.0