Cu基Al掺杂ZnO多层薄膜的生长及其性能

• 作者: 叶志镇 吕建国 王钰萍
• 来源期刊: 材料科学与工程学报
• 学科: 物理学
• 关键词: AZO 多层结构薄膜 光电性能 生长温度
• 年，卷（期）: 2011,（6）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 869-873,905
• 分类号: O484
• 语种: 中文

摘要

本文采用直流磁控溅射技术在玻璃衬底上制备了AZO/Cu、Cu/AZO和AZO/Cu/AZO三种复合结构多层膜,研究了生长温度对多层膜特性的影响,发现AZO/Cu双层薄膜具有最优的光电性能,其最佳生长温度为100~150℃。文中进一步考察了生长温度对AZO/Cu双层薄膜结构性能和表面形貌的影响,结果表明：合适的生长温度有利于改善AZO/Cu双层薄膜的晶体质量,进而提高其光电性能;150℃下沉积的薄膜具有最佳品质因子1.11×10-2Ω-1,此时方块电阻为8.99Ω/sq,可见光透过率为80%,近红外反射率约70%。本文在较低温度下制备的AZO/Cu双层膜具有较优的透明导电性和良好的近红外反射性,可以广泛应用于镀膜玻璃、太阳能电池、平板显示器等光电领域。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	叶志镇	浙江大学硅材料国家重点实验室材料科学与工程学系	155	1638	21.0	35.0
2	吕建国	浙江大学硅材料国家重点实验室材料科学与工程学系	35	769	12.0	27.0
3	王钰萍	浙江大学硅材料国家重点实验室材料科学与工程学系	5	16	3.0	4.0