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Cu基Al掺杂ZnO多层薄膜的生长和性能
Cu基Al掺杂ZnO多层薄膜的生长和性能
作者:
丛宏林
叶志镇
叶春丽
吕建国
江忠永
王钰萍
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
AZO
多层结构薄膜
光电性能
生长温度
摘要:
本文采用直流磁控溅射技术在玻璃衬底上制备了AZO/Cu、Cu/AZO和AZO/Cu/AZO三种复合结构多层膜,研究了生长温度对多层膜特性的影响,发现AZO/Cu双层薄膜具有最优的光电性能,其最佳生长温度为100~150℃。文中进一步考察了生长温度对AZO/Cu双层薄膜结构性能和表面形貌的影响,结果表明:合适的生长温度有利于改善AZO/Cu双层薄膜的晶体质量,进而提高其光电性能;150℃下沉积的薄膜具有最佳品质因子1.11×10^-2Ω^-1,此时方块电阻为8.99Ω/sq,可见光透过率为80%,近红外反射率约70%。本文在较低温度下制备的AZO/Cu双层膜具有较优的透明导电性和良好的近红外反射性,可以广泛应用于镀膜玻璃、太阳能电池、平板显示器等光电领域。
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篇名
Cu基Al掺杂ZnO多层薄膜的生长和性能
来源期刊
材料科学与工程学报
学科
物理学
关键词
AZO
多层结构薄膜
光电性能
生长温度
年,卷(期)
2012,(5)
所属期刊栏目
研究论文
研究方向
页码范围
684-688,693
页数
分类号
O484
字数
语种
中文
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1
叶志镇
浙江大学硅材料国家重点实验室材料科学与工程学系
155
1638
21.0
35.0
2
吕建国
浙江大学硅材料国家重点实验室材料科学与工程学系
35
769
12.0
27.0
3
王钰萍
浙江大学硅材料国家重点实验室材料科学与工程学系
5
16
3.0
4.0
4
叶春丽
浙江大学硅材料国家重点实验室材料科学与工程学系
6
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AZO
多层结构薄膜
光电性能
生长温度
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
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期刊影响力
材料科学与工程学报
主办单位:
浙江大学
出版周期:
双月刊
ISSN:
1673-2812
CN:
33-1307/T
开本:
大16开
出版地:
浙江杭州浙大路38号浙江大学材料系
邮发代号:
创刊时间:
1983
语种:
chi
出版文献量(篇)
4378
总下载数(次)
9
总被引数(次)
42484
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