投影光刻中相位光栅对准标记变形解决方案

• 作者: 殷履文 盖玉喜
• 来源期刊: 电子工业专用设备
• 学科: 工学
• 关键词: 对准系统 标记 相位光栅
• 年，卷（期）: 2011,（6）
• 所属期刊栏目: 光刻与刻蚀
• 页码范围: 7-9,36
• 分类号: TN305.7
• 字数: 1901字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1004-4507.2011.06.003

摘要

描述了相位光栅对准法在步进重复投影光刻机中的运用,通过比较同轴对准系统和离轴对准系统的原理,工作过程,阐述了当对准标记产生变形时离轴对准系统能更好地修正偏差从而保证光刻工艺中套刻精度的要求.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	殷履文	中国电子科技集团公司第五十五研究所	3	1	1.0	1.0
2	盖玉喜	中国电子科技集团公司第五十五研究所	1	0	0.0	0.0