化学腐蚀对超薄锗片机械强度的影响

• 作者: 刘晓伟 窦连水
• 来源期刊: 电子工业专用设备
• 学科: 工学
• 关键词: 化学腐蚀 机械强度 超薄锗片
• 年，卷（期）: 2011,（11）
• 所属期刊栏目: IC制造工艺与设备
• 页码范围: 15-17
• 分类号: TN305.2
• 字数: 929字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1004-4507.2011.11.005

摘要

随着锗太阳能光伏产业的发展，锗抛光片得到了广泛的应用。机械强度对锗衬底抛光片的质量和成品率有着重要的影响，采用化学腐蚀工艺，通过酸碱腐蚀实验的开展以及腐蚀温度、腐蚀液配比的控制，确立了提高锗单晶片机械强度的化学腐蚀工艺，腐蚀后晶片表面均匀，磨削纹路清晰可见，TTV小于3μm，机械强度为31-40N，完全满足应用要求。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	窦连水	中国电子科技集团公司第四十六研究所	3	2	1.0	1.0
2	刘晓伟	中国电子科技集团公司第四十六研究所	5	16	2.0	3.0