MPCVD法AlN基体上金刚石薄膜的制备

• 作者: 付秋明 湛玉龙 马志斌
• 来源期刊: 武汉工程大学学报
• 学科: 物理学
• 关键词: AlN 金刚石薄膜 丙酮 MPCVD
• 年，卷（期）: 2011,（1）
• 页码范围: 54-57,61
• 分类号: O484.1
• 字数: 3252字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1674-2869.2011.01.014

摘要

以丙酮和氢气作气源,采用微波等离子体化学气相沉积法(MPCVD)在AlN表面制备金刚石薄膜,并通过拉曼光谱(Raman),扫描电子显微镜(SEM)对沉积得到的金刚石薄膜进行表征.研究表明:直接在AlN表面沉积因金刚石的形核密度很低而很难得到连续的金刚石薄膜.利用金刚石微粉研磨AlN表面有利于金刚石形核密度的提高,Raman分析和电镜观察发现:所得的金刚石薄膜存在杂质和缺陷,没有明显的刻面特征,而且是由粒径较大的球状颗粒堆积而成.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	马志斌	武汉工程大学材料科学与工程学院武汉工程大学湖北省等离子体化学与新材料重点实验室	58	189	7.0	10.0
2	付秋明	武汉工程大学材料科学与工程学院武汉工程大学湖北省等离子体化学与新材料重点实验室	14	22	2.0	3.0
3	湛玉龙	武汉工程大学材料科学与工程学院武汉工程大学湖北省等离子体化学与新材料重点实验室	3	12	2.0	3.0