溅射压强对TiN/SiNx纳米多层膜微观结构及力学性能的影响

• 作者: 安涛 文懋 王丽丽 郑伟涛
• 来源期刊: 物理学报
• 学科: 物理学
• 关键词: TiN/SiNx多层膜 界面宽度 表面形貌
• 年，卷（期）: 2011,（1）
• 所属期刊栏目: 凝聚物质:结构、力学和热学性质
• 页码范围: 513-517
• 分类号: O484.1
• 语种: 中文

摘要

利用磁控溅射方法在不同溅射压强条件下制备了TiN/SiNx纳米多层膜.多层膜的微观结构及力学性能分别用X射线衍射仪、原子力显微镜及纳米压痕仪来表征.结果表明随着溅射压强的增大,多层膜的界面变模糊,TiN层的择优取向由(200)晶面过渡到(111)晶面.与此同时,多层膜的表面粗糙度增大,硬度和弹性模量随溅射压强的增大而减小.多层膜力学性能的差异主要是由于薄膜的周期性结构及致密度存在差异所致.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王丽丽	长春大学理学院	49	108	6.0	8.0
2	郑伟涛	吉林大学材料科学与工程学院	48	245	8.0	13.0
3	文懋	吉林大学材料科学与工程学院	3	8	2.0	2.0
4	安涛	长春大学理学院	14	20	3.0	4.0