大面积金刚石膜生长过程中的缺陷和内应力

• 作者: 刘繁 刘鹏飞 江川 汪建华 熊礼威 苏含
• 来源期刊: 武汉工程大学学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 金刚石膜 微波等离子体 化学气相沉积 内应力
• 年，卷（期）: 2012,（6）
• 页码范围: 38-41
• 分类号: O539
• 字数: 3277字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1674-2869.2012.06.010

摘要

采用甲烷和氢气作为气源,在直径为50mm的抛光单晶硅片上,利用新型微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)装置制备出金刚石膜.用扫描电子显微镜观测金刚石膜的表面形貌,利用激光Raman光谱表征金刚石膜的质量以及X射线衍射检测金刚石膜的成分和晶界缺陷.结果表明V(CH4)/V(H2)为1％,基片温度为845℃时,生长金刚石膜的质量较好,并且具有完整的晶体形貌,但是扫描电子显微镜图×5000倍时,观察到金刚石膜中明显的晶体缺陷存在,同时X射线衍射图表明金刚石膜的内应力较大.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	汪建华	武汉工程大学材料科学与工程学院	123	698	14.0	19.0
2	熊礼威	武汉工程大学材料科学与工程学院	37	243	9.0	14.0
3	刘繁	武汉工程大学材料科学与工程学院	22	74	4.0	8.0
4	苏含	武汉工程大学材料科学与工程学院	2	13	2.0	2.0
5	刘鹏飞	武汉工程大学材料科学与工程学院	2	13	2.0	2.0
6	江川	武汉工程大学材料科学与工程学院	2	13	2.0	2.0