ITO透明导电薄膜厚度与光电性能的关系

• 作者: 付静 余刚 吴云龙 成惠峰 王永斌 韩磊
• 来源期刊: 材料科学与工程学报
• 学科: 物理学
• 关键词: ITO 可见光透过率 面电阻 透明导电氧化物
• 年，卷（期）: 2012,（1）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 14-16
• 分类号: O484.4
• 语种: 中文

摘要

透明导电薄膜的厚度制约其光电性质。本研究利用磁控溅射技术制备了厚度变化范围为200-1500nm的ITO薄膜,探索了薄膜颜色、可见光透过率、面电阻与膜厚的关系。薄膜颜色随着膜厚的增加呈现有规律的变化,可见光透过率随薄膜厚度的增加而呈现振荡下降趋势,并出现了极大值（紫红色）,振荡趋势可用多光束干涉解释;薄膜面电阻随膜厚的增加呈减小趋势,薄膜厚度为1387nm时,面电阻为1.3Ω/□,薄膜最小电阻率为1.8×10-4Ω.cm。文章给出了可以通过选择恰当的薄膜厚度,以尽可能满足透明导电薄膜面电阻、透过率两个相互矛盾的指标。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	付静		18	49	3.0	6.0
2	余刚		17	56	4.0	7.0
3	成惠峰		6	43	3.0	6.0
4	吴云龙		13	54	3.0	7.0
5	韩磊		10	28	2.0	5.0
6	王永斌		4	23	2.0	4.0