中微第二代等离子体刻蚀设备首次在中国试运安装;用于32～28nm芯片加工

• 来源期刊: 电子工业专用设备
• 学科: 工学
• 关键词: 刻蚀设备 等离子体 芯片加工 第二代 SEMICON 安装 试运 中国
• 年，卷（期）: 2012,（4）
• 所属期刊栏目: 其它
• 页码范围: 63-64
• 页数: 2页
• 分类号: TN405
• 字数: 1948字
• 语种: 中文

摘要

中微半导体设备有限公司（以下简称＂中微＂）于SEMICON China展会期间宣布,中微第二代等离子体刻蚀设备Primo AD-RIETM正式装配国内技术最先进的集成电路芯片代工企业中芯国际,用于32～28 nm及更先进的芯片加工。