掺硼浓度对金刚石薄膜二次电子发射特性的影响

• 作者: 叶勤燕 周亮 李凯 王东 王兵 甘孔银
• 来源期刊: 材料导报
• 学科: 物理学
• 关键词: 掺硼金刚石薄膜 二次电子发射 化学气相沉积
• 年，卷（期）: 2012,（6）
• 所属期刊栏目: 材料研究
• 页码范围: 38-40,44
• 分类号: O484
• 字数: 2322字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1005-023X.2012.06.011

摘要

掺硼金刚石薄膜具有负电子亲和势和良好的电子运输性能且容易制备,作为冷阴极材料在图像显示技术和真空技术等领域都存在巨大的应用价值,引起人们的广泛关注.采用MPCVD法利用氢气、甲烷和硼烷的混合气体,制备出不同浓度的掺硼金刚石薄膜.结果表明,掺硼浓度影响金刚石薄膜的物相结构、组织形貌,进而影响其二次电子发射性能,当硼烷的流量为4mL/min时,制备的金刚石薄膜质量最好,二次电子发射系数约为90.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李凯	中国工程物理研究院应用电子学研究所	14	36	3.0	5.0
2	甘孔银	中国工程物理研究院应用电子学研究所	14	59	5.0	6.0
3	王东		2	3	1.0	1.0