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摘要:
β-Ga2O3是一种宽带隙半导体材料,能带宽度Eg≈5.0 eV,在光学和光电子学领域有广泛的应用.射频磁控溅射方法在Si衬底和远紫外光学石英玻璃衬底制备了本征β-Ga2O3薄膜及Zn掺杂β-Ga2O3薄膜,用紫外-可见分光光度计、X射线衍射仪、荧光分光光度计对本征β-Ga2O3 薄膜及Zn掺杂β-Ga2O3薄膜的光学透过、光学吸收、结构和光致发光进行了测量,研究了Zn掺杂和热退火对薄膜结构和光学性质的影响.退火后的β-Ga2O3薄膜为多晶结构,与本征β-Ga2O3薄膜相比,Zn掺杂β-Ga2O3薄膜的β-Ga2O3(111)衍射峰强度变小,结晶性变差,衍射峰位从35.69°减小至35.66°.退火后的Zn掺杂β-Ga2O3薄膜的光学带隙变窄,光学透过降低,光学吸收增强,出现了近边吸收,薄膜的紫外、蓝光及绿光发射增强.表明退火后Zn掺杂β-Ga2O3薄膜中的Zn原子被激活充当受主.
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文献信息
篇名 Zn掺杂β-Ga2O3薄膜的制备和特性研究
来源期刊 光子学报 学科 物理学
关键词 Zn掺杂β-Ga2O3 光学透过 光学带隙 光致发光
年,卷(期) 2012,(10) 所属期刊栏目 薄膜光学
研究方向 页码范围 1242-1246
页数 分类号 O484.4|O472.3
字数 1264字 语种 中文
DOI 10.3788/gzxb20124110.1242
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1 赵银女 鲁东大学教务处 8 29 3.0 5.0
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Zn掺杂β-Ga2O3
光学透过
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