脉冲偏压对贫铀表面磁控溅射CrN_x薄膜结构与性能的影响

• 作者: 刘天伟 吴艳萍 唐凯 朱生发 江帆 魏强 黄河
• 来源期刊: 材料热处理学报
• 学科: 工学
• 关键词: 贫铀 非平衡磁控溅射 CrNx薄膜
• 年，卷（期）: 2012,（5）
• 所属期刊栏目: 表面改性表回双任
• 页码范围: 116-120
• 分类号: TG174.44
• 语种: 中文

摘要

为改善金属铀基体的抗腐蚀性能,采用非平衡磁控溅射离子镀技术在不同偏压下于金属铀表面制备CrNx薄膜。采用SEM和AFM研究了薄膜形貌和表面粗糙度,采用X射线光电子能谱研究了薄膜表面的元素分布及化学价态。试验结果表明,采用磁控溅射在较低脉冲偏压下沉积的CrNx薄膜晶粒较细小,偏压越高,表面粗糙度越大。生成的薄膜为Cr＋CrN＋Cr2N混合结构,并含有少量的Cr2O3,随着偏压的升高,金属态Cr的含量减少,而铬的氮化物的含量增加,所制备薄膜的自然腐蚀电位升高,腐蚀电流密度减小。偏压为-800 V时,所制备的薄膜具有较好的抗腐蚀性能。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘天伟		9	42	4.0	6.0
2	朱生发		14	41	4.0	4.0
3	黄河		6	14	3.0	3.0
4	江帆		6	22	3.0	4.0
5	唐凯		9	37	4.0	5.0
6	魏强		10	33	4.0	5.0
7	吴艳萍		10	29	3.0	4.0