热蒸发紫外LaF3薄膜光学常数的表征

• 作者: 常艳贺 李春 金春水 靳京城
• 来源期刊: 中国激光
• 学科: 物理学
• 关键词: 薄膜 光学常数 热蒸发 LaF3 折射率 不均匀性
• 年，卷（期）: 2012,（8）
• 所属期刊栏目: 薄膜
• 页码范围: 154-157
• 页数: 4页
• 分类号: O484.41
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/CJL201239.0807002

摘要

薄膜光学常数的精确测定对于设计和制备多层薄膜具有重要意义.在JGS1型熔融石英基底上,采用热蒸发沉积方法制备了不同厚度的LaF3单层薄膜样品,利用光度法来获取弱吸收薄膜和基底的光学常数,计算得到其在185～450 nm范围内折射率n和消光系数K的色散曲线.实验结果表明,当膜层厚度较薄时,LaF3薄膜折射率表现出不均匀性现象.随着薄膜厚度的增加,薄膜折射率不均匀性减小.在求解过程中选用不均匀模型后,拟合结果与实际测试光谱曲线吻合得很好,提高了薄膜光学常数的计算精度.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李春	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所	30	317	10.0	17.0
2	金春水	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所	56	202	9.0	11.0
3	靳京城	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所	8	2	1.0	1.0
4	常艳贺	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所	8	17	2.0	4.0