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摘要:
采用溶胶-凝胶法在硅片基底上制备ZrO2薄膜,在150℃~750℃范围内不同温度下进行热处理,研究了热处理对膜层结构和光学性能的影响.X射线反射用于膜层厚度和界面粗糙度分析,结果表明热处理温度由150℃升至750℃,膜层厚度由常温状态下的112.3nm减小到34.0nm,表面和界面粗糙度均小于2nm.以X射线反射法测得的膜层厚度为初始值,对椭圆偏振仪的测量结果进行拟合,得到不同温度的膜层折射率,结果表明热处理温度为550℃时膜层折射率达到最大值.X射线反射作为直接的膜层厚度测试手段,所得结果为准确分析椭偏光谱提供了参考.
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关键词云
关键词热度
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文献信息
篇名 X射线反射法和椭圆偏振法结合测量热处理溶胶-凝胶ZrO2薄膜的结构和光学参数
来源期刊 材料科学与工程学报 学科 物理学
关键词 溶胶-凝胶 二氧化锆 X射线反射法 椭偏光谱法
年,卷(期) 2013,(1) 所属期刊栏目 研究论文
研究方向 页码范围 46-49,59
页数 分类号 O484.5
字数 语种 中文
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二氧化锆
X射线反射法
椭偏光谱法
研究起点
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期刊影响力
材料科学与工程学报
双月刊
1673-2812
33-1307/T
大16开
浙江杭州浙大路38号浙江大学材料系
1983
chi
出版文献量(篇)
4378
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9
总被引数(次)
42484
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