射频磁控溅射沉积Al/Al2O3纳米多层膜的结构及性能

• 作者: 吴大平 孙勇 朱雪婷 段永华 郭中正
• 来源期刊: 真空科学与技术学报
• 学科: 工学
• 关键词: 射频磁控溅射 Al/Al2O3纳米多层膜 调制比 硬度 摩擦系数
• 年，卷（期）: 2013,（5）
• 所属期刊栏目: 结构薄膜
• 页码范围: 477-482
• 分类号: TB43|TG146.4+11
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1672-7126.2013.05.16

摘要

运用射频磁控溅射技术在Si(100)基片及40Cr钢基体上制备了调制周期λ=60 nm,调制比η=0.25～3的Al/Al2O3纳米多层膜.通过X射线衍射、X射线光电子能谱、扫描电镜、原子力显微镜、维氏显微硬度仪及MFT-4000多功能材料表面性能测试仪对多层膜的结构、硬度、膜基结合强度及摩擦性能进行了研究.结果表明:Al/Al2O3多层膜中Al层呈现(111)择优取向,Al2O3层以非晶形式存在,多层膜呈现良好的调制结构.薄膜与衬底之间的结合强度较高,均在40N左右,摩擦系数均低于衬底的摩擦系数,表明Al/Al2O3多层膜具有一定的减摩作用.η=0.25的Al/Al2O3多层膜具有最高的硬度值(16.1GPa),摩擦系数最低(0.21),耐磨性能最好.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	孙勇		105	750	13.0	21.0
3	段永华		34	131	7.0	9.0
5	郭中正		29	152	8.0	11.0
11	朱雪婷		1	11	1.0	1.0
17	吴大平		1	11	1.0	1.0