激光波长对非晶硅薄膜晶化效果的影响

• 作者: 周德让 段国平 陈俊岭 韩俊鹤 黄明举
• 来源期刊: 光电子·激光
• 学科: 物理学
• 关键词: 薄膜 非晶硅(a-Si) 连续激光晶化 波长 晶化率
• 年，卷（期）: 2013,（10）
• 所属期刊栏目: 材料
• 页码范围: 1948-1952
• 页数: 5页
• 分类号: O484.1
• 语种: 中文

摘要

为研究波长对连续激光晶化非晶硅(a-Si)薄膜过程的影响,利用连续Ar+-Kr+激光对a-Si薄膜晶化,在5 ms固定照射时间下,改变激光波长,采用拉曼光谱测试技术和场发射扫描电子显微镜(SEM)研究在不同激光功率密度下薄膜晶化后的特性.结果表明,a-Si薄膜的晶化阈值随着波长的增大而增大,当波长为458 nm时薄膜晶化阈值为13.2 kW/cm2,波长为647 nm时,晶化阈值为19.2 kW/cm2；在激光功率密度范围为0～27.1 kW/cm2内,薄膜的最大晶化率受波长的影响相对较小,但总体也随着波长的增大而呈增大趋势,当波长为647 nm时,在激光功率密度26.5 kW/cm2处,晶化率达到最大值75.85％.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	黄明举		53	338	12.0	16.0
2	周德让		4	3	1.0	1.0
3	韩俊鹤		21	91	6.0	9.0
4	段国平		4	6	2.0	2.0
5	陈俊岭		2	1	1.0	1.0