脉冲激光晶化非晶硅薄膜的有限差分模拟

• 作者: 周军 楼祺洪 王之江 董景星 袁志军 魏运荣
• 来源期刊: 强激光与粒子束
• 学科: 物理学
• 关键词: 激光晶化 非晶硅薄膜 多晶硅 有限差分模拟
• 年，卷（期）: 2008,（7）
• 所属期刊栏目: ICF与激光等离子体
• 页码范围: 1100-1104
• 页数: 5页
• 分类号: O484.1
• 字数: 3129字
• 语种: 中文

摘要

根据热传导原理,建立了脉冲激光晶化非晶硅薄膜的理论模型.运用有限差分方法研究了不同激光波长、能量密度等因素对薄膜温度变化及相变过程的影响.计算了不同波长激光器对厚度500 nm非晶硅晶化的阈值能量密度.结果发现,准分子晶化的阈值能量密度最低,但是在同样的能量密度下,熔融深度却不及使用更长波长的激光器.计算并分析了升高衬底温度对结晶速度和晶粒尺寸的影响,模拟结果较好地验证了实验结论和规律.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	楼祺洪	中国科学院上海光学精密机械研究所	131	1539	22.0	31.0
2	袁志军	中国科学院上海光学精密机械研究所	9	59	5.0	7.0
3	周军	中国科学院上海光学精密机械研究所	190	2258	28.0	40.0
4	董景星	中国科学院上海光学精密机械研究所	93	890	17.0	23.0
5	魏运荣	中国科学院上海光学精密机械研究所	86	833	17.0	23.0
6	王之江	中国科学院上海光学精密机械研究所	34	660	14.0	25.0