不同基底的ITO薄膜制备及其光电性能

• 作者: 于洋 张海涛 杨坤 王志昕 王海权 胡志强
• 来源期刊: 大连工业大学学报
• 学科: 工学
• 关键词: 脉冲磁控溅射 石英 PET 氧化铟锡薄膜
• 年，卷（期）: 2014,（2）
• 所属期刊栏目: 纺织与材料工程
• 页码范围: 135-138
• 页数: 4页
• 分类号: TB321
• 语种: 中文

摘要

采用脉冲磁控溅射法在石英基底和柔性聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)上分别制备了氧化铟锡(ITO)透明导电薄膜.通过X射线衍射仪(XRD)、扫描电镜(SEM)对不同基底上ITO薄膜的微观结构及表面形貌进行了对比分析,并且研究了溅射气压、溅射时间和衬底温度等工艺条件对不同基底上制备的ITO薄膜的光透过率和光电性能的影响.结果表明,相同工艺条件下,石英玻璃上ITO薄膜的最佳方块电阻为13.3 Ω,可见光透过率为91％;PET上ITO薄膜的最佳方块电阻为15Ω,可见光透过率为85％.二者相比,石英基底上ITO薄膜的光电性能更佳,膜表面的致密度、均匀性更好.