硅基纳米金属光刻蚀结构的侧向光伏效应

• 作者: 周德军 张静 王辉
• 来源期刊: 北京师范大学学报（自然科学版）
• 关键词: 磁控溅射 纳米光刻蚀 半导体异质光伏效应结构 侧向光伏效应
• 年，卷（期）: 2014,（3）
• 页码范围: 275-277
• 页数: 3页
• 字数: 2036字
• 语种: 中文

摘要

研究目的是探索半导体异质结构下的新型光电效应,为位置灵敏传感器的设计提供新思路.利用磁控溅射镀膜技术在P型硅基衬底上生长 N型Cr金属薄膜,从而得到Cr/SiO/Si的硅基纳米金属异质结构.使用纳米光刻蚀技术在金属层上按照设计的条纹图形进行光刻蚀加工,得到硅基纳米金属光刻蚀结构.在对结构进行I-V特性测量的过程中发现侧向光伏效应.使用635 nm,功率5 mW激光器时,其侧向光伏效应的最大灵敏度为4.844 mV·mm-1,并且线性度较好.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王辉		116	803	16.0	24.0
2	张静		9	63	2.0	7.0
3	周德军		1	1	1.0	1.0