甲烷流量对中频磁控溅射制备TiSi-C:H薄膜生长和性能的影响

• 作者: 姜金龙 朱维君 王琼 郝俊英 陈娣 黄浩
• 来源期刊: 稀有金属材料与工程
• 关键词: a-C:H薄膜 中频磁控溅射 力学性能 摩擦性能
• 年，卷（期）: 2014,（10）
• 所属期刊栏目: 材料科学
• 页码范围: 2305-2310
• 页数: 6页
• 语种: 中文

摘要

以甲烷为先驱气体通过中频磁控溅射Ti80Si20靶材在硅和不锈钢基底上制备TiSi-C:H薄膜,研究了甲烷流量对薄膜沉积速率、结构、力学和摩擦学性能的影响.结果表明,甲烷流量对薄膜结构、力学和摩擦学性能有显著影响,随甲烷流量增加薄膜从包含约10nm晶的锥状纳米晶/非晶复合结构向非晶结构转变,在低甲烷流量下沉积的薄膜具有高硬度、高应力和高磨损率;在高甲烷流量下薄膜硬度和应力降低,而摩擦学性能提高.薄膜力学和摩擦学性能的变化被认为是随甲烷流量增加薄膜结构演化的结果.