中频交流磁控溅射制备AZO薄膜及退火工艺

• 作者: 杨光 梅冰 齐玉明
• 来源期刊: 电子元件与材料
• 学科: 工学
• 关键词: 无机非金属材料 中频磁控溅射 AZO薄膜 退火
• 年，卷（期）: 2007,（8）
• 所属期刊栏目: 研究与试制
• 页码范围: 62-64
• 页数: 3页
• 分类号: TN304.2
• 字数: 2858字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-2028.2007.08.018

摘要

以锌铝合金为靶材,采用工业生产设备,用中频交流磁控溅射法在玻璃衬底上制备出了铝掺杂氧化锌(AZO)透明导电薄膜,研究了氩氧比、退火温度、退火时间对薄膜结构、光学和电学性能的影响.结果表明,氩气和氧气体积流量比为3:1时常温下得到薄膜的方阻值最低,400 ℃真空退火1 h后薄膜可见光平均透过率由84.0 %上升到86.7 %,方阻值由5 000 Ω/□下降到108 Ω/□.