溅射气压对ZnO薄膜生长、发光性能和结构的影响

• 作者: 姚合宝 朱冠芳 闫明宝 高鹏鹏
• 来源期刊: 空军工程大学学报（自然科学版）
• 学科: 物理学
• 关键词: ZnO薄膜 溅射气压 光致发光 一维取向
• 年，卷（期）: 2009,（6）
• 所属期刊栏目: 基础理论研究
• 页码范围: 79-82
• 页数: 4页
• 分类号: O472
• 字数: 2424字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1009-3516.2009.06.018

摘要

沉积缺陷少、晶粒高度c轴择优生长的ZnO薄膜是制备短波发光器件和压电谐振传感器的关键问题之一.以ZnO为靶材,采用射频磁控溅射法在玻璃衬底上制备纳米ZnO薄膜,实现了室温下强的紫外受激发射和弱的深能级发射.通过对薄膜表面形貌的观测, 以及对X射线衍射(XRD)谱和室温光致发光(PL)谱的分析,研究了不同溅射气压对ZnO薄膜生长、结构和发光性能的影响.结果显示溅射气压在1.9 Pa-3.5 Pa之间,晶粒直径先增大后减小,在2.6 Pa时晶粒生长到最大;在3.2 Pa时薄膜单一取向性最优,以此推断最佳的溅射气压在2.6 Pa-3.2 Pa之间.实验在玻璃衬底上制备出了XRD衍射峰半高宽仅为0.12°的、高度c轴择优生长的ZnO薄膜.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	闫明宝	空军工程大学理学院	11	43	4.0	6.0
2	姚合宝	西北大学物理系	54	228	8.0	11.0
3	朱冠芳	空军工程大学理学院	12	27	3.0	4.0