溅射气压对ZnO薄膜的影响

• 作者: LEE Won-jae 单福凯 孙海燕 耿广州 黄家寅
• 来源期刊: 青岛大学学报（自然科学版）
• 学科: 物理学
• 关键词: 氧化锌 磁控溅射 气压 X-射线衍射仪
• 年，卷（期）: 2011,（1）
• 所属期刊栏目: 物理
• 页码范围: 38-41
• 分类号: O484.1
• 字数: 2167字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1006-1037.2011.01.010

摘要

采用射频磁控溅射的方法,通过改变溅射气压,在玻璃衬底上沉积出具有c轴择优取向的ZnO薄膜.用X射线衍射仪(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)和原子力显微镜(AFM)对不同溅射气压下ZnO薄膜的结构、断面和表面形貌进行研究分析.结果表明,随着溅射气压的降低,ZnO薄膜的(002)取向增强,薄膜的厚度增加,沉积速率加快,氧化锌薄膜的沉积速率从4 nm/min升高到21 nm/min.在溅射压强为2.5 Pa时制备的ZnO薄膜粗糙度最小,大小为5.45 nm.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	孙海燕	青岛大学物理科学学院	6	11	2.0	3.0
2	黄家寅	青岛大学物理科学学院	13	47	5.0	6.0
3	耿广州	青岛大学物理科学学院	2	8	1.0	2.0