Ar气流量对磁控溅射制备微晶硅薄膜微观结构及光/电学性能的影响

• 作者: 乔泳彭 蒋百灵
• 来源期刊: 人工晶体学报
• 学科: 工学
• 关键词: 射频磁控溅射 Ar气流量 微晶硅薄膜
• 年，卷（期）: 2015,（2）
• 页码范围: 361-367
• 页数: 7页
• 分类号: TM914.4
• 字数: 5110字
• 语种: 中文

摘要

采用射频磁控溅射法在不同Ar气流量条件下制备了多组微晶硅薄膜,研究了Ar气流量对薄膜微观结构及光/电学性能的影响.结果表明:当Ar气流量的较小时,微晶硅薄膜的沉积速率较高,薄膜的晶化率、晶粒尺寸以及粗糙度处于较好的生长态势.同时,薄膜的光学性能发生明显变化,对于长波长范围内薄膜的光学透过率随Ar气流量的增大逐渐下降.薄膜的电学性能表现为随Ar气流量的增大,少子寿命呈现出先增大后大幅降低的变化趋势.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	蒋百灵	西安理工大学材料科学与工程学院	241	5240	40.0	64.0
2	乔泳彭	西安理工大学材料科学与工程学院	4	13	2.0	3.0