基体放置状态与脉冲偏压幅值对大颗粒形貌和分布的影响

• 作者: 田修波 蒋志强 魏永强 魏永辉
• 来源期刊: 真空科学与技术学报
• 学科: 工学
• 关键词: 电弧离子镀 TiN 大颗粒 脉冲偏压幅值 放置状态
• 年，卷（期）: 2014,（10）
• 所属期刊栏目: 结构薄膜
• 页码范围: 1012-1018
• 分类号: TB383.2|TB302.1|TB333
• 语种: 中文
• DOI: 10.13922/j.cnki.cjovst.2014.10.02

摘要

利用电弧离子镀方法制备了TiN薄膜,研究了脉冲偏压幅值和试样放置状态对Ti大颗粒形貌和分布规律的影响.采用扫描电子显微镜观察了薄膜的表面形貌,利用ImageJ科学图像软件对Ti大颗粒的数目和尺寸进行了分析.结果表明:在不施加脉冲偏压时,随着试样表面与靶表面放置方向从平行到垂直,大颗粒数目迅速由4964降低到3032,所占薄膜的面积比从12.1％减少到4.7％;而在相同的放置方向下,发现静止状态下的薄膜表面大颗粒数目较少,尺寸也较小,而转动状态下大颗粒形貌差别较大,尺寸和所占的面积比较大.随着脉冲偏压幅值的增加,在各个放置状态下大颗粒都出现了先减小后增加的趋势,当幅值在-400V时,薄膜表面大颗粒所占的面积比都达到最小值.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	蒋志强	郑州航空工业管理学院机电工程学院	98	734	11.0	24.0
3	田修波	哈尔滨工业大学先进焊接与连接国家重点实验室	106	515	11.0	17.0
4	魏永强	郑州航空工业管理学院机电工程学院	16	57	4.0	7.0
13	魏永辉	郑州航空工业管理学院机电工程学院	19	93	5.0	9.0