提拉法SiO2化学膜厚度与折射率的变化规律研究

• 作者: 严鸿维 吕海兵 张尽力 张日东 晏良宏 王韬 赵松楠 雷洁红
• 来源期刊: 强激光与粒子束
• 学科: 物理学
• 关键词: 提拉法 SiO2膜 薄膜厚度 折射率
• 年，卷（期）: 2014,（7）
• 所属期刊栏目: ICF 与激光等离子体
• 页码范围: 70-74
• 页数: 5页
• 分类号: O484.1
• 字数: 2935字
• 语种: 中文
• DOI: 10.11884/HPLPB201426.072005

摘要

采用提拉法在硅基底上制备了多孔溶胶凝胶SiO2膜,用椭偏法测量薄膜的厚度与折射率,考察了提拉速度和胶体浓度对膜层厚度与折射率的影响.对厚度与提拉速度的关系进行线性与幂函数拟合,并比较分析两种拟合的关系及其对工艺流程的作用.比较了不同浓度胶体所得到的同一厚度薄膜的折射率变化规律.结果表明:对于同一胶体浓度下薄膜厚度与提拉速度的正相关关系,线性拟合相比幂函数拟合可以更好地解释实验结果的规律性.同时,折射率在一定范围内也会随着提拉速度的增加而减小.镀同一厚度膜时,浓度大的胶体膜层折射率大.通过对提拉速度和胶体浓度的控制可以得到理想的薄膜厚度与折射率.