TiN薄膜沉积条件对组织结构和结合力的影响

• 作者: 杜菲菲 肖娜 邢韵
• 来源期刊: 材料与冶金学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 反应磁控溅射 TiN薄膜 沉积时间 基板温度 结合力
• 年，卷（期）: 2015,（3）
• 所属期刊栏目: 材料
• 页码范围: 211-216,221
• 页数: 7页
• 分类号: O484.2
• 字数: 3190字
• 语种: 中文
• DOI: 10.14186/j.cnki.1671-6620.2015.03.011

摘要

在不同沉积时间和基板温度下,采用反应磁控溅射的方法在Ti6Al4V基板上沉积TiN薄膜,溅射过程中固定溅射总压、溅射功率、氮氩流量比等沉积条件.利用XRD、SEM分别研究了薄膜的微观结构和表面、截面形貌,利用显微硬度仪和划痕仪分别测量了薄膜的硬度和膜基结合力.研究结果表明:随着沉积时间的增加,薄膜硬度和膜基结合力均有增大趋势;随着基板温度的升高,TiN薄膜择优取向由(lll)转向(200)晶面,表面形貌由三角锥转变为片层状,硬度和膜基结合力均呈现升高趋势.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	肖娜	东北大学材料电磁过程研究教育部重点实验室	14	17	3.0	3.0
2	邢韵	中国科学院沈阳自动化研究所	4	9	2.0	2.0
3	杜菲菲	东北大学材料各向异性与织构教育部重点实验室	5	15	3.0	3.0