HFCVD 硼掺杂复合金刚石薄膜的机械性能研究

• 作者: 孙方宏 沈彬 王新昶 申笑天
• 来源期刊: 金刚石与磨料磨具工程
• 学科: 工学
• 关键词: HFCVD 硼掺杂 金刚石薄膜 机械性能
• 年，卷（期）: 2015,（6）
• 页码范围: 8-13,18
• 页数: 7页
• 分类号: TQ164|TH145
• 字数: 5600字
• 语种: 中文
• DOI: 10.13394/j.cnki.jgszz.2015.6.0002

摘要

综合不同种类单层金刚石薄膜的典型优点制备的复合金刚石薄膜具有优异的综合性能，本研究对比了 UMCD、BDMCD、UFGD 和两类新型硼掺杂复合金刚石薄膜的机械性能。研究结果表明：硼掺杂技术可有效改善金刚石薄膜的附着性能，因此 BDM-UMCD 和 BDM-UM-UFGCD 薄膜均具有较好的附着性能；表层为 UMCD 薄膜的 BDM-UMCD 薄膜(84.354 GPa)具有 UMCD 薄膜(82.058 GPa)表面硬度极高的优点，但是表面粗糙度较高(R a 304.41 nm)、表面可抛光性较差；相比之下，表层为 UFGD 薄膜的BDM-UM-UFGCD 薄膜则具有 UFGD 薄膜优异的表面光洁度(R a 104.71 nm)和表面可抛光性，此外由于硬度极高的中间层 UMCD 对于表层硬度的补充作用，该复合薄膜还具有相比于单层 UFGD 薄膜(67.925 GPa)而言较高的表面硬度(72.657 GPa)。