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焦耳热效应引发的晶须生长机理研究
焦耳热效应引发的晶须生长机理研究
作者:
何洪文
曹立强
朱承治
聂京凯
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
焦耳热
电迁移
晶须
应力释放
无铅焊点
电流密度
摘要:
研究了Cu/Sn3.8Ag0.7Cu/Cu一维焊点在电流密度为5×103A/cm2、环境温度为100℃作用下晶须的生长机理。研究结果表明,通电300 h后,在Cu/Sn3.8Ag0.7Cu/Cu焊点的阳极界面出现了一些小丘,而在焊点的阴极出现了一些裂纹;通电500 h后,焊点阴极界面的裂纹进一步扩展,而且在裂纹处发现了大量纤维状Sn晶须,其长度超过10μm;继续通电达到700 h后,Sn晶须的数量没有增加,同时停止生长。由于电迁移的作用,金属原子在电子风力的作用下由焊点的阴极向阳极进行了扩散迁移,进而在阴极处形成裂纹。随着裂纹逐渐扩展,导致该区域处的电流密度急剧增大,焦耳热聚集效应明显,为了释放应力,形成了纤维状的晶须。
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形貌
生长机理
ALB上焦耳热场的形态分布特征及环境意义探讨
地磁场
焦耳热
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气候变化
内容分析
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关键词云
关键词热度
相关文献总数
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文献信息
篇名
焦耳热效应引发的晶须生长机理研究
来源期刊
电子元件与材料
学科
工学
关键词
焦耳热
电迁移
晶须
应力释放
无铅焊点
电流密度
年,卷(期)
2015,(6)
所属期刊栏目
研究与试制
研究方向
页码范围
74-77
页数
4页
分类号
TN604
字数
2725字
语种
中文
DOI
10.14106/j.cnki.1001-2028.2015.06.019
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
曹立强
中国科学院微电子研究所
20
100
4.0
9.0
2
朱承治
43
275
8.0
16.0
3
何洪文
中国科学院微电子研究所
2
7
1.0
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聂京凯
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2011(1)
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二级参考文献(0)
2015(0)
参考文献(0)
二级参考文献(0)
引证文献(0)
二级引证文献(0)
研究主题发展历程
节点文献
焦耳热
电迁移
晶须
应力释放
无铅焊点
电流密度
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
电子元件与材料
主办单位:
中国电子学会
中国电子元件行业协会
国营第715厂(成都宏明电子股份有限公司)
出版周期:
月刊
ISSN:
1001-2028
CN:
51-1241/TN
开本:
大16开
出版地:
成都市一环路东二段8号宏明商厦702室
邮发代号:
62-36
创刊时间:
1982
语种:
chi
出版文献量(篇)
5158
总下载数(次)
16
总被引数(次)
31758
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电子元件与材料2015年第4期
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