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ONO反熔丝器件寿命预测模型的建立
ONO反熔丝器件寿命预测模型的建立
作者:
刘佰清
刘国柱
敖一程
洪根深
王印权
郑若成
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
ONO反熔丝
TDDB
E Model
激活能
寿命模型
摘要:
基于1.0 μm ONO(SiO2-Si3 N4-SiO2)反熔丝CMOS工艺下的反熔丝单元器件,研究了ONO反熔丝单元器件的TDDB寿命预测模型.研究发现ONO反熔丝单元器件的温度激活能Ea与电场强度Eeff存在线性关系,证明了ONO反熔丝器件的TDDB寿命预测模型满足“E Model”;并基于TDDB可靠性实验数据分析,拟合“E Model”模型中的各个参数,建立了寿命预测模型.同时,通过建立的寿命模型预测不同批次的ONO单元器件寿命,与实测值对比发现,寿命预测模型具有较高的准确性.
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基于 NC-Verilog 的反熔丝 FPGA全电路快速仿真
反熔丝
反熔丝FPGA
NC_Verilog
快速仿真
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文献信息
篇名
ONO反熔丝器件寿命预测模型的建立
来源期刊
材料导报
学科
物理学
关键词
ONO反熔丝
TDDB
E Model
激活能
寿命模型
年,卷(期)
2015,(14)
所属期刊栏目
计算模拟
研究方向
页码范围
152-155
页数
4页
分类号
O47
字数
2536字
语种
中文
DOI
10.11896/j.issn.1005-023X.2015.14.033
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
洪根深
33
74
5.0
6.0
2
郑若成
20
44
4.0
5.0
3
王印权
7
10
2.0
3.0
4
刘国柱
15
32
4.0
4.0
5
刘佰清
2
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敖一程
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节点文献
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(0)
二级引证文献
(0)
2000(3)
参考文献(3)
二级参考文献(0)
2015(0)
参考文献(0)
二级参考文献(0)
引证文献(0)
二级引证文献(0)
研究主题发展历程
节点文献
ONO反熔丝
TDDB
E Model
激活能
寿命模型
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
材料导报
主办单位:
重庆西南信息有限公司(原科技部西南信息中心)
出版周期:
半月刊
ISSN:
1005-023X
CN:
50-1078/TB
开本:
大16开
出版地:
重庆市渝北区洪湖西路18号
邮发代号:
78-93
创刊时间:
1987
语种:
chi
出版文献量(篇)
16557
总下载数(次)
86
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