调制中频高功率脉冲磁控溅射电源的设计

• 作者: 张凤晓 王浪平
• 来源期刊: 无线互联科技
• 关键词: 调制脉冲 磁控溅射 HPPMS MPP
• 年，卷（期）: 2015,（18）
• 所属期刊栏目: 设计分析
• 页码范围: 55-56
• 页数: 2页
• 字数: 2073字
• 语种: 中文

摘要

文章指出叠加直流的HPPMS技术有直流部分占空比较高和不可控制2大缺点,在做沉积薄膜实验时无法提供溅射所需的高功率,导致空比较低,溅射效率稍低的高功率脉冲产生.为了解决问题,需要研制一台电源,并且该电源可以用中频调制脉冲高功率磁控溅射MPP(Modulated pulsed power),普通高功率磁控溅射系统中的直流部分可以用低频脉冲来代替,尽可能减少低频脉冲占空比并且可以确保充分预处理,使高功率脉冲占空比尽可能最大,提高系统的溅射效率.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张凤晓	装甲兵技术学院通信教研室	8	4	1.0	1.0
2	王浪平	装甲兵技术学院通信教研室	1	1	1.0	1.0