磁控溅射镀膜的原理与故障研究

• 作者: 周江
• 来源期刊: 科技展望
• 关键词: 磁控溅射镀膜 原理 故障 研究分析
• 年，卷（期）: 2015,（23）
• 所属期刊栏目: 技术与应用
• 页码范围: 135-135
• 页数: 1页
• 字数: 2263字
• 语种: 中文

摘要

随着国际上片式电阻器工艺技术的高速发展，片式膜电阻器等新型电子元器件正在向更小尺寸、更高精度、更高稳定性和更新工艺的方向发展。片式电阻器在小型化（外形尺寸向1005方向发展）、大功率（2W、5W、10W等）、高精度（阻值精度为0.05%、0.01%）、温度系数（±5PPm）、超低阻﹝阻值≤10Ω）、超高阻（阻值＞100MΩ）等主要技术参数方面也相继提出了这些技术指标。片式薄膜电阻器是近几年来发展最迅速、应用范围最广、前景最被看好的新一代片式电阻器。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	周江		1	3	1.0	1.0