基于田口法的在玻璃基板上溅射ITO薄膜制作工艺研究

• 作者: 张鹃如 梅明亮 王翠凤
• 来源期刊: 长春工程学院学报（自然科学版）
• 学科: 工学
• 关键词: 氧化铟锡(ITO) 田口法 溅射
• 年，卷（期）: 2016,（4）
• 所属期刊栏目: 机械工程·电气工程
• 页码范围: 25-28
• 页数: 4页
• 分类号: TB43
• 字数: 2076字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1009-8984.2016.04.007

摘要

利用射频磁控溅射方式将氧化铟锡(ITO)沉积在玻璃基板上,设定温度、压力、溅射功率为主要参数,每个参数均有3个水平,运用田口实验方法设计L9直交表,质量目标设定为方阻,以变异数分析得到的结果作为最优工艺参数条件,并测量膜厚、透光率.以X光衍射仪分析结晶状况、SEM观察结构及生长型态来了解其性质.结果显示功率对方阻的影响最大,贡献度占91%,而功率大,薄膜厚度越厚,晶粒粒径较大,结晶性较强,方阻减小及透过率降低.由于结晶性好也提高透光率,膜厚100~300 nm时,透光率80%以上.最优工艺参数为温度230 ℃、功率300 W及压力在1.5 mTorr下有方阻最小.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王翠凤	福建信息职业技术学院机电工程系	28	87	5.0	7.0
2	梅明亮	福建信息职业技术学院机电工程系	8	13	3.0	3.0