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Experimental Study on Hydrogenation of SiCl4 to SiHCl3 in a Stirred Bed Reactor
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摘要：
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利用SiCl4/Ar/H2气体ICP干法刻蚀GaAs材料
GaAs
干法刻蚀
电感耦合等离子体
SiCl4
光滑表面
An experimental study on dynamic coupling process of alkaline feldspar dissolution and secondary min
Alkaline feldspar
Dissolution rate
Precipitation
Mineral conversion
Secondary porosity
SiCl4浓度对微晶硅薄膜生长及光电特性的影响
微晶硅
稳恒光电导效应
晶粒
等离子体增强化学气相沉积
多晶硅还原炉进气中添加SiCl4、SiH2Cl2工艺进展
四氯化硅
二氯二氢硅
环保
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过程工程学报
主办单位：
中国科学院过程工程研究所
出版周期：
月刊
ISSN：
1009-606X
CN：
11-4541/TQ
开本：
大16开
出版地：
北京353信箱
邮发代号：
80-297
创刊时间：
1976
语种：
chi
出版文献量（篇）
4156
总下载数（次）
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41536
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