湿化学清洗设备在GaN基LED正装芯片制程中的应用

• 作者: 姚立新 张伟峰 曹秀芳 段成龙 殷子文
• 来源期刊: 电子工业专用设备
• 学科: 工学
• 关键词: 湿化学制程设备 产能计算 LED芯片制程
• 年，卷（期）: 2016,（12）
• 所属期刊栏目: 清洗技术与设备
• 页码范围: 3-6,38
• 页数: 5页
• 分类号: TN305.97
• 字数: 2602字
• 语种: 中文

摘要

讨论了湿化学清洗设备的产能和耗水(DIW)计算方法,以100 mm晶圆,单批次流片量50片为例,阐述了湿化学清洗设备整机和单元模块的各类配置;依据晶圆在各刻蚀清洗工艺后的表面形状,明确了各清洗设备在工艺中的作用.湿化学清洗设备可依据生产情况灵活处理生产需求,已成为LED芯片制程生产线中应用最多的设备之一.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	殷子文		1	0	0.0	0.0
2	姚立新		1	0	0.0	0.0
3	张伟峰		1	0	0.0	0.0
4	曹秀芳		1	0	0.0	0.0
5	段成龙		1	0	0.0	0.0