直流磁控溅射法制备γ-Al2O3薄膜的介电特性

• 作者: 刘振深 杜保立 胡保付
• 来源期刊: 河南理工大学学报（自然科学版）
• 学科: 工学
• 关键词: 直流磁控溅射 氧化铝薄膜 介电常数 高能量密度
• 年，卷（期）: 2016,（3）
• 所属期刊栏目: 基础学科
• 页码范围: 440-444
• 页数: 5页
• 分类号: TB321|TB34
• 字数: 3341字
• 语种: 中文
• DOI: 10.16186/j.cnki.1673-9787.2016.03.025

摘要

高密度储能电容器是当前研究的热点,为探究氧化铝薄膜在高密度电容器中潜在的应用,采用直流磁控溅射方法制备了氧化铝薄膜,薄膜质地均匀致密,表面平整光滑.X射线衍射谱分析表明制备的薄膜属于γ晶型的氧化铝.薄膜具有优良的介电性能,氧化铝薄膜电容器理论储能密度约为7.6 J/cm3.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	胡保付	河南理工大学物理化学学院	8	25	2.0	5.0
2	杜保立	河南理工大学物理化学学院	11	22	3.0	4.0
3	刘振深	河南理工大学物理化学学院	4	5	2.0	2.0