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摘要:
日前,西安电子科技大学微电子学院郝跃院士研究团队在负电容锗与锗锡沟道金属氧化物半导体场效应晶体管(MOSFET)研究领域取得了突破性进展,首次通过实验,系统地验证了铁电MOSFET器件中的负电容效应以及负电容对器件电流和亚阈值摆幅的提升作用。
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文献信息
篇名 西电郝跃院士团队在先进微电子器件研究领域取得突破性进展
来源期刊 半导体信息 学科 工学
关键词 微电子器件 突破性 金属氧化物半导体场效应晶体管 院士 西安电子科技大学 MOSFET器件 电容效应 负电容
年,卷(期) bdtxx_2016,(6) 所属期刊栏目
研究方向 页码范围 17-18
页数 2页 分类号 TN4
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研究主题发展历程
节点文献
微电子器件
突破性
金属氧化物半导体场效应晶体管
院士
西安电子科技大学
MOSFET器件
电容效应
负电容
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
半导体信息
双月刊
16开
南京市1601信箱43分箱(南京市中山东
1990
chi
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5953
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