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摘要:
在高压功率器件领域,常规的场限环技术由于环的个数较多,占用芯片面积较大,导致终端的效率很低.为了改善这一缺点,提出了一种带P-埋层的新型高压终端技术,有效降低了主结边缘处的电场集中,提高了击穿电压.仿真结果表明,该结构的击穿电压达到3 439 V,终端的长度为1000μm,较常规的场限环结构1 500μm(英飞凌公司3 300V产品)节省了近30%的终端面积.
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文献信息
篇名 一种带埋层的新型结终端技术
来源期刊 电子元件与材料 学科 工学
关键词 电场 击穿电压 终端技术 场限环 P-埋层 终端宽度
年,卷(期) 2016,(9) 所属期刊栏目 研究与试制
研究方向 页码范围 37-40
页数 4页 分类号 TN386.1
字数 2009字 语种 中文
DOI 10.14106/j.cnki.1001-2028.2016.09.008
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 张金平 电子科技大学电子薄膜与集成器件国家重点实验室 19 83 5.0 8.0
2 李泽宏 电子科技大学电子薄膜与集成器件国家重点实验室 32 111 6.0 8.0
3 周嵘 3 3 1.0 1.0
4 张玉蒙 电子科技大学电子薄膜与集成器件国家重点实验室 1 2 1.0 1.0
5 熊景枝 电子科技大学电子薄膜与集成器件国家重点实验室 1 2 1.0 1.0
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2019(1)
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研究主题发展历程
节点文献
电场
击穿电压
终端技术
场限环
P-埋层
终端宽度
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
电子元件与材料
月刊
1001-2028
51-1241/TN
大16开
成都市一环路东二段8号宏明商厦702室
62-36
1982
chi
出版文献量(篇)
5158
总下载数(次)
16
总被引数(次)
31758
论文1v1指导