基于DMD光刻制作微柱透镜阵列分模曝光的研究

• 作者: 冷雁冰 刘顺瑞 吴博琦 孙艳军 张恒煦 李哲 王丽 董连和
• 来源期刊: 真空科学与技术学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 无掩模光刻 数字微镜 灰度掩模 微柱透镜阵列 分模曝光
• 年，卷（期）: 2016,（12）
• 所属期刊栏目: 其他
• 页码范围: 1441-1445
• 分类号: O436.1
• 语种: 中文
• DOI: 10.13922/j.cnki.cjovst.2016.12.17

摘要

针对无掩模光刻技术制作微柱透镜阵列的面形精度问题,对曝光方式和掩模设计进行研究,采用一种分模曝光方法,包括图形分层,掩模设计,分层掩模灰度调制,分层曝光四个步骤.在曝光前,需要对二维掩模版图按设计结构高度进行分层,以实现单层掩模在抗蚀剂上的投影成像高度不超过物镜的焦深范围.基于数字微镜阵列对灰度掩模的空间调制原理,设计出匹配的分层掩模版图,给出了图形分层原则和方法以及模板设计的原理.实验结果表明:采用该方法制作微柱透镜阵列,面形平均误差为0.54 μm,相比以往单模曝光平均误差值0.79 μm,平均误差减小了0.25μm,该方法弥补了由物镜焦深限制所造成的技术问题,提高了曝光质量.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	董连和	长春理工大学光电工程学院	45	151	7.0	11.0
2	孙艳军	长春理工大学光电工程学院	36	106	6.0	9.0
3	冷雁冰	长春理工大学光电工程学院	34	117	6.0	10.0
4	王丽	长春理工大学光电工程学院	32	34	3.0	4.0
5	李哲	长春理工大学光电工程学院	4	15	2.0	3.0
6	刘顺瑞	长春理工大学光电工程学院	9	5	1.0	2.0
7	吴博琦	长春理工大学光电工程学院	7	9	1.0	3.0
8	张恒煦	长春理工大学光电工程学院	2	0	0.0	0.0