光刻胶材料中国区域专利现状分析

• 作者: 何莉莉 崔国振
• 来源期刊: 中国发明与专利
• 关键词: 光刻胶材料 中国区域 专利分析
• 年，卷（期）: 2016,（6）
• 所属期刊栏目: 统计分析
• 页码范围: 45-49
• 页数: 5页
• 字数: 5238字
• 语种: 中文

摘要

近年来，我国光刻胶材料的市场规模大幅增长。本文对光刻胶材料中国区域的专利申请的现状进行了分析，梳理了专利申请总体趋势、地域分布、申请人构成、主要申请人、专利申请的法律状态等情况，以期为我国光刻胶材料企业的发展提供一定的参考。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	崔国振		6	10	2.0	3.0
2	何莉莉	国家知识产权局专利局光电部	3	9	2.0	3.0