溅射气压对磁控溅射Mo背电极层形貌与结构的影响

• 作者: 于涛 宋斌斌 左宁 张传升 李博研 李新连 赵树利 郭凯 陈颉
• 来源期刊: 材料导报
• 学科: 工学
• 关键词: 磁控溅射 CIGS Mo背电极 溅射气压 形貌结构
• 年，卷（期）: 2016,（16）
• 所属期刊栏目: 材料研究
• 页码范围: 35-38,59
• 页数: 5页
• 分类号: TB43|O484
• 字数: 2952字
• 语种: 中文
• DOI: 10.11896/j.issn.1005-023X.2016.16.008

摘要

采用直流磁控溅射法在溅射气压为0.1～1.0Pa下制备了金属Mo膜.用扫描电子显微镜(SEM)和原子力显微镜(AFM)对单层Mo膜的表面、断面形貌和粗糙度进行了分析与表征;用X射线衍射(XRD)研究了气压对Mo膜晶粒尺寸和薄膜应力应变的影响;用SEM观察了双层和三层Mo背电极层的表面形貌.结果表明,溅射气压升高,表面颗粒由细长变得圆润,均方根粗糙度升高,其值介于1.32～4.81 nm之间;Mo膜的晶粒尺寸随气压的升高而降低,其值介于27.2～11.7 nm之间;溅射气压为0.2 Pa和0.3 Pa时制备的Mo膜显现为张应力;将双层Mo背电极表面制备0.7 Pa的Mo层后,表面更加圆润,孔隙增多.