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摘要:
伴随着IC制造技术的迅猛发展,IC技术已经渗透到我们生活的各个角落.为了满足IC封装的要求,芯片的厚度不断降低.因此对硅片表面的质量有个更高的要求.介绍了硅片的研磨过程和研磨液的作用,对国内主流研磨液进行了简单的介绍,分析了它们的优缺点.
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文献信息
篇名 硅片研磨液的研究
来源期刊 电子工业专用设备 学科 工学
关键词 研磨液 硅片 悬浮 活性剂
年,卷(期) 2017,(1) 所属期刊栏目 半导体制造工艺与设备
研究方向 页码范围 26-27,42
页数 3页 分类号 TN305.2
字数 163字 语种 中文
DOI
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作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 李晶 中国电子科技集团公司第四十六研究所 26 50 4.0 5.0
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研究主题发展历程
节点文献
研磨液
硅片
悬浮
活性剂
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
电子工业专用设备
双月刊
1004-4507
62-1077/TN
大16开
北京市朝阳区安贞里三区26号浙江大厦913室
1971
chi
出版文献量(篇)
3731
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