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摘要:
采用直流溅射法,以纯锡为靶材制备出了SnO2纳米薄膜,并利用X射线衍射仪、透射电镜及台阶仪对纳米薄膜的物相结构及厚度进行了分析测试.结果表明:采用单晶硅作为衬底时可以制备出晶态的SnO2纳米薄膜,该纳米薄膜由粒径几纳米到十几纳米的SnO2小颗粒组成,而采用载玻片作为衬底时则制备出了非晶态的SnO2纳米薄膜;通过控制溅射时间,可以得到一系列不同厚度的SnO2纳米薄膜,直流溅射法制备SnO2纳米薄膜的膜厚公式为d=0.29UIt(其中d为薄膜厚度,?,1?=0.1 nm;U为溅射电压,V;I为溅射电流,A;t为溅射时间,s).
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文献信息
篇名 直流溅射法制备SnO2纳米薄膜及其表征
来源期刊 理化检验-物理分册 学科 工学
关键词 直流溅射 SnO2 纳米薄膜 衬底 物相结构 膜厚公式
年,卷(期) 2017,(12) 所属期刊栏目 试验与研究
研究方向 页码范围 871-873,878
页数 4页 分类号 TG146.1+4
字数 1522字 语种 中文
DOI 10.11973/lhjy-wl201712004
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 张蓓 北京科技大学自然科学基础实验中心 18 73 6.0 7.0
2 刘敬茹 北京科技大学新金属材料国家实验室 5 3 1.0 1.0
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研究起点
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理化检验-物理分册
月刊
1001-4012
31-1338/TB
大16开
上海市邯郸路99号
4-183
1963
chi
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10
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