金属铜辅助化学刻蚀对金刚线切割多晶硅的制绒

• 作者: 席风硕 李绍元 杨玺 邱佳佳 邹宇新 马文会
• 来源期刊: 中国表面工程
• 学科: 工学
• 关键词: 金刚线切割 多晶硅 切割纹 铜辅助刻蚀 倒金字塔 反射率
• 年，卷（期）: 2017,（6）
• 所属期刊栏目: 表面工程研究
• 页码范围: 59-66
• 页数: 8页
• 分类号: TB383|TN305.7
• 字数: 4102字
• 语种: 中文
• DOI: 10.11933/j.issn.1007-9289.20170427002

摘要

针对金刚线切割多晶硅制绒后硅片反射率偏高且切割纹难以去除等问题,采用酸性湿法刻蚀预处理再结合低成本的金属铜辅助化学刻蚀成功的实现了金刚线切割多晶硅片表面制绒.研究结果表明,随着酸腐蚀时间的增加,金刚线切割多晶硅片表面切割纹、粗糙度得到有效改善.倒金字塔结构的引入能够有效地降低硅片表面的反射率.当酸洗预处理时间为5 min,金属铜辅助化学刻蚀时间为l5 min时,样品表面倒金字塔结构最均匀,且在300～1 100 nm波长范围内,获得最低平均反射率3.32％.同时优越的减反效果和去除切割纹能力,使得制绒后金刚线切割多晶硅片有望实现高效率的太阳能电池.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	马文会	昆明理工大学冶金与能源工程学院	125	1141	17.0	29.0
2	杨玺		19	22	3.0	4.0
3	邹宇新	昆明理工大学冶金与能源工程学院	4	6	1.0	2.0
4	邱佳佳	昆明理工大学冶金与能源工程学院	2	6	1.0	2.0
5	席风硕	昆明理工大学冶金与能源工程学院	4	6	1.0	2.0
6	李绍元	昆明理工大学复杂有色金属资源清洁利用国家重点实验室	9	10	2.0	3.0