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摘要:
采用多重场限环终端实现了一种高压4H-SiC肖特基二极管.基于Medici仿真计算结果,并利用两环简化模型结构,给出了耐压5800 V终端结构各个场限环之间的优化间距.终端整体仿真结果表明:该优化结构通过将耗尽区边界扩展,很好地抑制了结边缘部分的电场集中效应,击穿时所有场限环的峰值电场基本相同,达到了优化设计的目的.通过流片验证,采用该终端结构设计的4H-SiC肖特基势垒二极管击穿电压大于5500 V,达到理想值的90%以上,充分验证了该终端设计方法的可行性.
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文献信息
篇名 4H-SiC高压肖特基二极管研制
来源期刊 智能电网 学科 工学
关键词 碳化硅 肖特基势垒二极管 多重场限环
年,卷(期) 2017,(8) 所属期刊栏目 高压大功率SiC 材料、器件及应用
研究方向 页码范围 786-789
页数 4页 分类号 TN311
字数 2448字 语种 中文
DOI 10.14171/j.2095-5944.sg.2017.08.010
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 王勇 中国电子科技集团公司第十三研究所 53 98 6.0 7.0
2 王永维 中国电子科技集团公司第十三研究所 5 7 2.0 2.0
3 李永平 3 8 2.0 2.0
4 吴昊 6 16 2.0 3.0
5 李玲 4 4 1.0 1.0
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碳化硅
肖特基势垒二极管
多重场限环
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