精确测定InxGa1-xN晶体薄膜中铟含量的卢瑟福背散射法研究

• 作者: 刘运传 周燕萍 孟祥艳 王倩倩 王康 王雪蓉
• 来源期刊: 中国测试
• 关键词: 氮铟镓 金属有机化合物气相淀积法 卢瑟福背散射 测量不确定度
• 年，卷（期）: 2017,（3）
• 所属期刊栏目: 物理测试
• 页码范围: 15-18,57
• 页数: 5页
• 字数: 3651字
• 语种: 中文
• DOI: 10.11857/j.issn.1674-5124.2017.03.004

摘要

采用金属有机化合物气相淀积法(MOCVD)在蓝宝石上生长InxGa1-xN/GaN晶体薄膜,GaN缓冲层的厚度为2.5μm,InxGa1-xN晶体薄膜的厚度大约800 nm,通过光致发光光谱仪测量样品发光峰的峰值,确定铟镓氮晶体薄膜中铟分布的均匀性,取样品均匀性良好的铟镓氮晶片进行卢瑟福背散射实验,每个实验室测量6个样品,两个实验室共同完成,对数据进行分多层精确拟合分析,获得外延层中的xIn,xIn值由多层拟合结果的加权平均值和定值不确定度组成.研究结果表明:采用入射离子4He,能量为2000 keV,散射角为165°时,铟镓氮晶片中铟含量(x=20.46%)的相对测量不确定度为2.47%,包含因子k=2.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘运传		31	80	5.0	7.0
2	孟祥艳		29	80	5.0	7.0
3	周燕萍		28	51	4.0	5.0
4	王雪蓉		22	35	3.0	4.0
5	王康		8	13	2.0	3.0
6	王倩倩		5	7	1.0	2.0